亚洲精品一区二区三区香蕉,久久精品国产亚洲AV无码男同,麻豆射区,国产成人免费一区二区三区
歡迎來到岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司網(wǎng)站!
咨詢熱線
4008529632
網(wǎng)站首頁
關(guān)于我們
新聞動態(tài)
產(chǎn)品中心
技術(shù)文章
成功案例
資料下載
人才招聘
在線留言
聯(lián)系我們
當(dāng)前位置:
首頁
>
技術(shù)文章
>
單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機的相關(guān)知識普及
單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機的相關(guān)知識普及
更新時間:2024-03-12 | 點擊率:1647
單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機支持各種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準(zhǔn)方式。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉(zhuǎn)換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級各個階層用戶,非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。
EVG單面/雙面掩模對準(zhǔn)光刻機特征:
1、晶圓/基片尺寸從零碎片到200毫米/ 8英寸。
2、臺式或獨立式帶防振花崗巖臺面。
3、敏捷的處理和轉(zhuǎn)換重新加工。
4、分步流程指引。
5、遠程技術(shù)支持。
6、頂部和底部對準(zhǔn)功能。
7、高精度對準(zhǔn)。
8、自動楔形補償序列。
9、電動的和程序控制的曝光間隙。
10、支持先進的UV-LED技術(shù)。
11、小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求。
12、多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同語言)。
上一篇:
Subnano3D干涉輪廓儀不得不說的優(yōu)點
下一篇:
Thetametrisis膜厚儀的優(yōu)勢體現(xiàn)在哪里
在線咨詢
電話
4008529632
微信掃一掃
返回頂部