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在電子制造和材料科學領(lǐng)域,去膠技術(shù)是一個至關(guān)重要的環(huán)節(jié)。隨著科技的進步,等離子去膠和微波去膠作為兩種常見的去膠方法,各自具備特殊的優(yōu)勢與適用性。本文將探討這兩種技術(shù)的基本原理、優(yōu)缺點及其在實際應(yīng)用中的區(qū)別。一、基本原理1.等離子去膠:利用等...
近年來,隨著儀器行業(yè)的不斷發(fā)展,多波段橢偏儀在市場上得到了快速地發(fā)展。由于其突出的表現(xiàn),受到了廣泛用戶的青睞。目前本產(chǎn)品可以適用于超薄膜,與樣品非接觸等,下面我們就來具體的了解一下這款儀器!在多波段橢偏儀的測量中使用不同的硬件配置,但每種配置都必須能產(chǎn)生已知偏振態(tài)的光束。測量由被測樣品反射后光的偏振態(tài)。這要求儀器能夠量化偏振態(tài)的變化量ρ。有些儀器測量ρ是通過旋轉(zhuǎn)確定初始偏振光狀態(tài)的偏振片。再利用第二個固定位置的偏振片來測得輸出光束的偏振態(tài)。另外一些儀器是固定起偏器和檢偏器,而...
接觸式光刻機是一種用于信息科學與系統(tǒng)科學、能源科學技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。主要構(gòu)成:主要由對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。接觸式光刻機的使用原理:其實在我國對于接觸式光刻機,曝光時掩模壓在光刻膠的襯底晶片上,其主要優(yōu)點是可以使用價格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達到了小于0.1gm的特征尺寸,常用的光源分辨率...
硬化涂層膜厚儀是一款快速、準確測量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控制的XY工作臺,使其快速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。工作原理:本產(chǎn)品采用電磁感應(yīng)法測量涂層的厚度。位于部件表面的探頭產(chǎn)生一個閉合的磁回路,隨著探頭與鐵磁性材料間的距離的改變,該磁回路將不同程度的改變,引起磁阻及探頭線圈電感的變化。利用這一原理可以精確地測量探頭與鐵磁性材料間的距離,即涂層厚度。硬化涂層膜厚儀的符合...
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。等離子去膠性能出色的組件和軟件,可對工藝參數(shù)進行精確控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。產(chǎn)品具有去膠快速*;對樣片無損傷;操作簡單安全;設(shè)計緊湊美觀;產(chǎn)品性價比高等...
紅外激光測厚儀是用來測量材料及物體厚度的儀表,它常用來連續(xù)或抽樣測量鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料等產(chǎn)品的厚度。目前國內(nèi)廠家普遍采用人工測量和控制的方法來管控板材的厚度,這存在著測量精度差的、成材率低等弊端,因此采用專業(yè)的測厚儀來能有效地改善測控環(huán)境,提高生產(chǎn)效率、提高成材率和產(chǎn)品質(zhì)量。目前本產(chǎn)品主要應(yīng)用于鋰電池正、負極涂布、鋰電池正、負極輥壓的厚度測量,以實際情況為例,使用時,可放置激光測厚儀于銀壓后和收卷前,在具有極片張力波動和銀壓機振動的復(fù)雜工況下測量設(shè)備使用浮...