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等離子去膠機采用怎樣的工藝流程,其軟件有什么優(yōu)勢?

更新時間:2024-01-19  |  點擊率:1039
  等離子去膠和等離子清洗機是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理,具有廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
 
  等離子去膠機基本工藝流程:
  1、將圓片從片盒內(nèi)取出,放置到工藝腔內(nèi),執(zhí)行所選定的工藝文件完成去膠,將圓片放到冷卻臺上(如有需要),最后將圓片送回片盒。為了獲得更高的產(chǎn)量,可以使用熱絕緣的Teflon片盒,從而省略冷卻臺的步驟。
  2、機械手可以在3個軸向上運動。機械手的末端器帶有真空,用于在移動過程中吸住圓片。
  3、圓進入工藝腔體后,3根藍寶石桿會從圓片邊緣將圓片托住。
  4、工藝腔的腔壁內(nèi)裝有12個用于腔體加熱加熱器。圓片放入腔體后,由腔體底部的8個鹵素?zé)襞輰A片加熱到工藝溫度。
  5、O2和少量的N2混合后送入微波導(dǎo)管內(nèi)的石英等離子體管。由磁控管生成的微波能量激發(fā)混合氣體生成等離子體,將O2和N2分子解離成O原子和N原子?;钚粤W禹樍鞫?,通過配氣室被帶出源頭區(qū)域。能夠?qū)A片造成損傷的高能活性粒子,在通過3層分氣盤的過程中發(fā)生氣相復(fù)合而被消除。能夠氧化光刻膠的低能量自由基和中性粒子,則被送到圓片表面,完成去膠。
  6、去膠工藝的終點,可以通過檢測工藝過程中等離子體輝光的變化速率來確定。在去膠工藝結(jié)束時,鹵素?zé)襞蓐P(guān)閉,微波源關(guān)閉(繼而輝光消失),工藝氣體關(guān)閉。
  7、隨后腔體內(nèi)通入氮氣進行吹掃,然后通氣到達大氣壓以便將圓片取出。圓片從腔體內(nèi)取出后會被送到冷卻臺。冷卻臺是一個通水冷卻的平臺。圓片冷卻后將送回片盒內(nèi)原來的槽位。
 
  等離子去膠機軟件具有以下特點:
  1、使用菜單界面可以很簡便地進行工藝循環(huán)的設(shè)定和執(zhí)行。
  2、故障處理功能使工程師和服務(wù)人員能夠單獨觸發(fā)各個子系統(tǒng)。
  3、控制軟件可以在所有帶有并口的奔騰系列的電腦上運行。電腦與設(shè)備之間只通過一根接口電纜進行對接。
  4、可在控制軟件內(nèi)對所有子系統(tǒng)進行自動校準。這有利于更快捷、更簡單地進行校準,進而提升工藝結(jié)果。
  5、工藝文件創(chuàng)建。該功能來自工藝文件編輯器,可以創(chuàng)建、編輯工藝文件,以實現(xiàn)對工藝腔體內(nèi)的晶圓進行全自動工藝流程控制。
  6、工藝文件確認,可以顯示出控制流程中的錯誤。
  7、可以存儲多個工藝文件、工藝數(shù)據(jù)和校準文件,方便以后對工藝和校準結(jié)果進行對比和維護。
  8、可以通過設(shè)置密碼保護系統(tǒng)、工藝文件編輯、診斷、校準和功能設(shè)置的安全性。
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