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關(guān)于光刻機的用料,以下有詳細(xì)說明
關(guān)于光刻機的用料,以下有詳細(xì)說明
更新時間:2023-01-08 | 點擊率:1352
光刻機
應(yīng)用的光刻技術(shù)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法。可以通過以下兩種基本方法之一實現(xiàn)圖案化:直接寫入圖案,或通過掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。限定的圖案可以幫助限定襯底上的特征(例如蝕刻),或者可以由沉積的圖案形成特征。
通過計算機輔助設(shè)計(CAD)定義圖案模式。多數(shù)情況下,這些特征是使用抗蝕劑形成的,可以使用光(使用光致抗蝕劑),電子束(使用電子束抗蝕劑)或通過物理沖壓(不需要抗蝕劑,也叫納米壓印)來定義圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到另一個層蝕刻,電鍍或剝離。
光刻機的用料:
1、光刻膠:
抗蝕劑是懸浮在溶劑中的聚合物。根據(jù)抗蝕劑的類型,可以使用紫外線或電子束選擇性地將其除去??梢詫⑺锌刮g劑大致分為正抗蝕劑或負(fù)抗蝕劑,常見的是正抗蝕劑。在正性抗蝕劑中,在顯影抗蝕劑后將暴露的區(qū)域除去。在負(fù)性抗蝕劑中,在顯影抗蝕劑后仍保留了暴露的區(qū)域。
不同類型的光刻使用不同類型的抗蝕劑,因此您需要檢查哪種抗蝕劑適合您的工藝。
2、顯影劑:
顯影劑是用于在曝光后蝕刻掉光致抗蝕劑的基礎(chǔ)。幾種可用的顯影劑:AZ 726、AZ 300、AZ 400K、MF 319和Microposit Developer??梢栽谠O(shè)備上使用顯影劑。需要檢查每個設(shè)備是否允許或允許哪些顯影劑。
3、掩模版:
掩模版用于在曝光期間阻擋光線,因此僅曝光所需圖案內(nèi)的光刻膠。如果在多個樣本中需要相同的模式,這將很有用。掩模是具有一層鉻和一層光刻膠的玻璃或熔融石英襯底。光刻膠以所需的圖案曝光,然后顯影。之后,使用鉻蝕刻在掩模中設(shè)置圖案。
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